在冷凍機(jī)中真空鍍膜事情道理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件外貌結(jié)晶。由于氛圍對(duì)蒸發(fā)的膜體分子會(huì)發(fā)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗拙無(wú)光，所以必需在高真空下才氣使結(jié)晶體精密灼爍，果如真空度不高結(jié)晶體就會(huì)失去光芒結(jié)協(xié)力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射，團(tuán)結(jié)差工效低光芒差。此刻加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場(chǎng)的浸染下加快轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，辦理了已往自然蒸發(fā)無(wú)法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍鋯等等。在中頻設(shè)備必需冷凍機(jī)加冷卻水，原因是它的頻率高電流大。電流在導(dǎo)體活動(dòng)時(shí)有一個(gè)集膚效應(yīng)，電荷會(huì)聚積在電導(dǎo)有外貌積，這樣使電導(dǎo)發(fā)燒所以回收中孔管做導(dǎo)體中間冷凍機(jī)加水冷卻。

　　制冷機(jī)為什么也要用水冷卻，磁控濺射靶在發(fā)射時(shí)會(huì)發(fā)生高溫會(huì)使射槍變形，所以它有一個(gè)水套來(lái)冷卻射槍。制冷機(jī)同時(shí)尚有一個(gè)重要原因磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技能中最突出的成績(jī)之一。制冷機(jī)真空鍍膜以濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)協(xié)力好。從更深條理研究電子在非勻稱電磁場(chǎng)中的舉動(dòng)紀(jì)律,探討了磁控濺射的更一般道理以及磁場(chǎng)的橫向不勻稱性及對(duì)稱性是磁約束的本質(zhì)原因。制冷機(jī)真空鍍膜磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技能中最突出的成績(jī)之一。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)協(xié)力好、裝置機(jī)能不變。

　　冷水機(jī)是一種水冷卻設(shè)備，能提供恒溫、恒流、恒壓的冷卻水設(shè)備。其事情道理是先向機(jī)內(nèi)水箱注入必然量的水，通過(guò)制冷系統(tǒng)將水冷卻，再由水泵將低溫冷卻水送入需冷卻的設(shè)備，冷凍水將熱量帶走后溫度升高再回流到水箱，到達(dá)冷卻的浸染。冷卻水溫可按照要求自動(dòng)調(diào)理，恒久利用可節(jié)省用水。冷水性能節(jié)制真空鍍膜機(jī)的溫度，以擔(dān)保鍍件的高質(zhì)量。假如不配冷水機(jī)就不能使真空鍍膜機(jī)到達(dá)高精度、高效率節(jié)制溫度的目標(biāo)，因?yàn)樽匀凰退岫疾恍兄浦沟厥艿阶匀粴鉁氐挠绊懀⑶掖朔椒ü?jié)制是極不不變的。冷水機(jī)具有完全獨(dú)立的制冷系統(tǒng)，毫不會(huì)受氣溫及情況的影響，水溫在5℃～30℃范疇內(nèi)調(diào)理節(jié)制，因而可以到達(dá)高精度、高效率節(jié)制溫度的目標(biāo)，冷水機(jī)設(shè)有獨(dú)立的水輪回系統(tǒng)。